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SiC MOS结构空间电荷区杂质离化的研究

尚也淳;张义门;张玉明   

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  • 出版日期:2001-10-20 发布日期:2001-10-20

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Authors   

  • Online:2001-10-20 Published:2001-10-20

摘要: 在研究Sic MOS表面空间电荷区杂质不完全离化的过程中引入了Frenkel-Pool 效应,并建立了在电场作用下SiC杂质离化的新模型。基于对一维Poisson方程的求解,分析了场致离化对Sic MOS结构特性的影响,结果表明,电场的作用会提高SiC中杂质离化浓度,使析冻效应减弱,并最终导致Sic MOS器件特性发生变化。

关键词: SiC, Frenkel-Pool效应, 杂质离化

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中图分类号: 

  • TN304.0