摘要:
通过对InGaN三元合金的生长方式做对比,发现在相同条件下,因常规生长过程中反应室In的浓度更高,生长出的InGaN中In组分更高。但是由于预反应的原因晶体质量较差,而脉冲生长由于源的分时输运,大幅减小了预反应的发生,提高了晶体质量。但由于生长时反应室In原子浓度变小,In的组分会降低,也会减小In滴的析出。
中图分类号:
贾文博,李培咸,周小伟,杨扬. MOCVD脉冲生长对InGaN太阳能电池材料的影响[J]. , 2013, 26(1): 10-.
JIA Wenbo,LI Peixian,ZHOU Xiaowei,YANG Yang. Influence of MOCVD Pulse Growth on InGaN Solar Cells Materials[J]. , 2013, 26(1): 10-.