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基于ICP的硅高深宽比沟槽刻蚀技术
展明浩, 宋同晶, 皇华, 王文婧, 陈博
Study of High Aspect Ratio Silicon Trench Etching Based on ICP
ZHAN Ming-Hao, SONG Tong-Jing, HUANG Hua, WANG Wen-Jing, CHEN Bo
. 2012, (
8
): 77 .